快速退火炉
ATM和Vacuum平台均可使用，每个平台由两到三个腔室组成。还可以提供模块型腔体结构。
- ARES™-RTP（快速热处理工艺）系列能为半导体制造工艺中的离子注入、退火、SPIKE及氧化工艺提供解决方案。能够在短时间内对晶圆进行高温处理的RTP工艺使用卤素灯将温度变化的影响降到最低。
- ATST的ARES™-RTP系列可提供良好的温度均匀性、晶圆旋转、辐射能校正和智能温控。此外，自主研发的软件还可以优化后满足客户多种需求。
- ARES™-RTP系列已经在DRAM/NAND制造企业安装了150多台。以在制造现场验证的技术为基础，2020年成功进军中国市场。
RTP Line-Up
